等離子刻蝕機與沉積設備

RIE等離子刻蝕機

PE-200(RIE)反應離子刻蝕機是半導體工藝中的核心設備之一。在半導體制造工藝中，它利用等離子體能量對硅片進行精細加工，是制造微電子器件的關鍵步驟。反應離子刻蝕機具有高度的精度，可以在微觀水平上創建極其復雜的圖案。反應離子刻蝕機在半導體行業中的應用非常廣泛。它不僅可以用于蝕刻半導體材料，如硅和磷等，還可以用于制造芯片和電路。此外，反應離子刻蝕機還在微電子、微機電系統（MEMS）和納米技術應用制造等領域發揮著重要作用。

RIE刻蝕機

氮化硅刻蝕

氧化硅刻蝕