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產(chǎn)品展示
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等離子清洗機(jī)
在線式全自動(dòng)真空等離子清洗機(jī)
功能強(qiáng)：改性作用僅發(fā)生在材料表面，不改變基體固有性能；適用廣：不分處理對(duì)象的基材類(lèi)型，如金屬、塑料、玻璃、高分子材料等均可進(jìn)行處理；易操作：工藝簡(jiǎn)單，操作方便，生產(chǎn)可控性強(qiáng)且穩(wěn)定性高；節(jié)能、環(huán)保：用氣成本低，全程干燥的處理方式，不消耗水資源、無(wú)需添加化學(xué)藥劑、不產(chǎn)生污染。 PLC+觸摸屏控制 50/60Hz AC220V(±10V)
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等離子刻蝕機(jī)與沉積設(shè)備
ICP等離子刻蝕機(jī)
PE-200(ICP) 電感耦合等離子刻蝕機(jī)在多個(gè)領(lǐng)域有著廣泛的應(yīng)用，主要包括有，在電子與通信技術(shù)領(lǐng)域可用于二氧化硅、應(yīng)變硅、碳化硅、多晶硅柵結(jié)構(gòu)、III-V族化合物等半導(dǎo)體材料的刻蝕，以及金屬導(dǎo)線、金屬焊墊等金屬材料的刻蝕；在機(jī)械工程領(lǐng)域常用于硅材料的深槽刻蝕，以及MEMS（微機(jī)電系統(tǒng)）表面工藝中的淺硅刻蝕；除此之外，在納米技...
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等離子體去膠機(jī)
RIE等離子體去膠機(jī)
PD-200 RIE（反應(yīng)離子刻蝕）等離子體去膠機(jī)是一種在半導(dǎo)體制造、微電子加工及相關(guān)科研領(lǐng)域中非常重要的設(shè)備。它利用反應(yīng)離子刻蝕技術(shù)，通過(guò)物理轟擊和化學(xué)反應(yīng)的綜合作用，能有效地去除光刻膠、殘留聚合物以及其他有機(jī)物，并能進(jìn)行一些材料的刻蝕和表面處理。
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等離子處理機(jī)
DL-600在線往復(fù)式等離子表面處理機(jī)
可應(yīng)用于液晶面板行業(yè) STN/TFT/OLED/LTPS、觸控面板、光電元件、PCB/FPC行業(yè)、太陽(yáng)能行業(yè)、觸控面板行業(yè)，以及電子元件封裝貼合前清潔、 LED封裝等等 DL-600 最大寬度560mm 氮化硅刻蝕AC220V(±10V)
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寬幅等離子處理機(jī)
FR-L235線型等離子清洗機(jī)
小型等離子模組，可根據(jù)產(chǎn)品的規(guī)格定做，應(yīng)用于各種材料表面清潔、活化等；不分處理對(duì)象的基材類(lèi)型，如金屬、塑料、玻璃、高分子材料等均可進(jìn)行處理；可與生產(chǎn)線結(jié)合連續(xù)操作；成本低效率高，全程干燥處理不產(chǎn)生任何污染物； FR-L235 13.56MHz AC220V(±10V)
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USC干式超聲波除塵清洗機(jī)
USC干式超聲波除塵清洗機(jī)
1、非接觸式結(jié)構(gòu)避免材料損傷。超聲波可打破空氣粘滯層，徹底清除極小顆粒（1.6um以上）的灰塵。2、從除塵單元吹出的氣流得到充分的應(yīng)用，控制了整個(gè)氣流和真空，從而保證了持續(xù)的清除性能不受材料厚度的影響。3、高效的氣流控制，一些低壓氣流也能得到應(yīng)用，減小了損耗。4、閉環(huán)系統(tǒng)不會(huì)破壞生產(chǎn)車(chē)間（潔凈室）的氣流平衡。5、不需要高額的消...
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輔助配件
點(diǎn)膠機(jī)點(diǎn)膠平臺(tái)
可應(yīng)用于粘接、底部填充、定點(diǎn)灌封、表面貼裝、檢測(cè)試紙的噴涂、邦定、芯片固晶、封裝倒扣、精密涂覆、定堆棧封裝POP、密封等工藝點(diǎn)膠平臺(tái)自主控制系統(tǒng)AC220V(±10V)
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等離子清洗機(jī)
GD-5小型等離子清洗機(jī)
設(shè)備采用PLC+觸摸屏控制，操作簡(jiǎn)單易維護(hù)，產(chǎn)品主要適用于小規(guī)模生產(chǎn)、科學(xué)實(shí)驗(yàn)；
腔體材質(zhì)采用316不銹鋼、進(jìn)口鋁合金材質(zhì)，耐腐蝕，腔體可以根據(jù)客戶產(chǎn)品需求定制；
進(jìn)口針閥精密流量控制計(jì)，兩路工藝反應(yīng)氣體通道；
獨(dú)特的電極結(jié)構(gòu)，確保等離子體的均勻性；
- GD-5
- 40KHz/13.56MHz
- AC220V(±10V)
產(chǎn)品詳情介紹
技術(shù)參數(shù)
行業(yè)應(yīng)用
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