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等離子清洗機
在線式全自動真空等離子清洗機
功能強：改性作用僅發生在材料表面，不改變基體固有性能；適用廣：不分處理對象的基材類型，如金屬、塑料、玻璃、高分子材料等均可進行處理；易操作：工藝簡單，操作方便，生產可控性強且穩定性高；節能、環保：用氣成本低，全程干燥的處理方式，不消耗水資源、無需添加化學藥劑、不產生污染。 PLC+觸摸屏控制 50/60Hz AC220V(±10V)
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等離子刻蝕機與沉積設備
ICP等離子刻蝕機
PE-200(ICP) 電感耦合等離子刻蝕機在多個領域有著廣泛的應用，主要包括有，在電子與通信技術領域可用于二氧化硅、應變硅、碳化硅、多晶硅柵結構、III-V族化合物等半導體材料的刻蝕，以及金屬導線、金屬焊墊等金屬材料的刻蝕；在機械工程領域常用于硅材料的深槽刻蝕，以及MEMS（微機電系統）表面工藝中的淺硅刻蝕；除此之外，在納米技...
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等離子體去膠機
RIE等離子體去膠機
PD-200 RIE（反應離子刻蝕）等離子體去膠機是一種在半導體制造、微電子加工及相關科研領域中非常重要的設備。它利用反應離子刻蝕技術，通過物理轟擊和化學反應的綜合作用，能有效地去除光刻膠、殘留聚合物以及其他有機物，并能進行一些材料的刻蝕和表面處理。
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等離子處理機
DL-600在線往復式等離子表面處理機
可應用于液晶面板行業 STN/TFT/OLED/LTPS、觸控面板、光電元件、PCB/FPC行業、太陽能行業、觸控面板行業，以及電子元件封裝貼合前清潔、 LED封裝等等 DL-600 最大寬度560mm 氮化硅刻蝕AC220V(±10V)
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寬幅等離子處理機
FR-L235線型等離子清洗機
小型等離子模組，可根據產品的規格定做，應用于各種材料表面清潔、活化等；不分處理對象的基材類型，如金屬、塑料、玻璃、高分子材料等均可進行處理；可與生產線結合連續操作；成本低效率高，全程干燥處理不產生任何污染物； FR-L235 13.56MHz AC220V(±10V)
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USC干式超聲波除塵清洗機
USC干式超聲波除塵清洗機
1、非接觸式結構避免材料損傷。超聲波可打破空氣粘滯層，徹底清除極小顆粒（1.6um以上）的灰塵。2、從除塵單元吹出的氣流得到充分的應用，控制了整個氣流和真空，從而保證了持續的清除性能不受材料厚度的影響。3、高效的氣流控制，一些低壓氣流也能得到應用，減小了損耗。4、閉環系統不會破壞生產車間（潔凈室）的氣流平衡。5、不需要高額的消...
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等離子刻蝕機與沉積設備
RIE反應離子刻蝕機（單腔）
FR-G200(RIE)反應離子刻蝕機是半導體工藝中的核心設備之一。在半導體制造工藝中，它利用等離子體能量對硅片進行精細加工，是制造微電子器件的關鍵步驟。反應離子刻蝕機具有高度的精度，可以在微觀水平上創建極其復雜的圖案。反應離子刻蝕機在半導體行業中的應用非常廣泛。它不僅可以用于蝕刻半導體材料，如硅和磷等，還可以用于制造芯片和電路。此外，反應離子刻蝕機還在微電子、微機電系統（MEMS）和納米技術應用制造等領域發揮著重要作用。
- RIE刻蝕機
- 氮化硅刻蝕
- 氧化硅刻蝕
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